SIMPÓSIO D - CARACTERIZAÇÃO ESTRUTURAL DE MATERIAIS NA ESCALA NANOMÉTRICA (JUNTO COM A MICROMAT)

A instrumentação em microscopia eletrônica e técnicas associadas continuam fornecendo avanços significativos para aplicações em ciência e engenharia de materiais. Atualmente, problemas de caracterização podem ser abordados rotineiramente na escala nanométrica, atingindo a resolução na escala atômica. Os principais avanços se encontram principalmente no campo da imagem quantitativa em alta resolução, contraste Z, na escala atômica, mapeamento químico elementar por EDS e imagem espectroscópica via filtros de energia no MET, EELS em resolução atômica para composição elementar e ligações atômicas, difração por feixe convergente CBED quantitativo, holografia de elétrons, EBSD no MEV para identificação e orientação de fases, microanálise em baixa voltagem em amostras, MEV em baixa energia, e experiências in-situ de fenômenos dinâmicos no microscópio. Avanços em técnicas de preparação de amostra com alta precisão, tipo FIB, tem igualmente um papel importante.

Este simpósio é organizado em reconhecimento a contribuição do Prof. Manfred Rühle, do Max-Planck Institut, enfatizando como estes desenvolvimentos recentes em microscopia eletrônica vem sendo utilizados para resolver problemas em materiais. Palestrantes convidados apresentarão palestras referentes a aplicações em um amplo espectro de materiais.

São solicitadas contribuições que fazem referencia especifica ao uso de desenvolvimentos recentes em microscopia eletrônica para resolver problemas de materiais nas seguintes áreas:

  • Materiais metálicos estruturais, incluindo transformações de fases e controle microestrutural;
  • Cerâmicos estruturais e eletrônicos, compósitos e minerais;
  • Partículas, zeolitas, catalizadores, fulerenos e nano-tubos;
  • Materiais microeletrônicos, semicondutores e fotonicos;
  • Filmes finos epitaxiais e policristalinos, multicamadas.

Este simpósio é organizado juntamente pelos encontros da SBPMat e MICROMAT.

Palavra-chave: Nanoestruturas


Organizadores

Guillermo Solórzano
DCMM/PUC RJ
guilsol@dcmm.puc-rio.br

Joachim Mayer
Central Facility for Electron Microscopy, Aachen University
mayer@gfe.rwth-aachen.de 

 

Comitê científico

Fernando Galembeck (Unicamp)
Luiz Henrique de Almeida (UFRJ)
Hans J. Kestembach UFSCar)
Paula M. Jardim PUC-Rio)
Paulo Fichtner (UFRGS)

 

Lista Preliminar de Palestrantes Convidados:

Manfred Ruhle (Max-Planck-Institute)
Barry Carter (Minnesota)
Christoph Koch (MPI, Stuttgart)
Dagmar Gerthsen (Karlsruhe)
Daniel Ugarte (LNLS)
David Smith (ASU)
Gustaf Van Tendeloo (RUCA, Belgium)
Hannes Lichte (Dresden)
Hans J Kestembach (UFSCar, Brazil)
Hideki Ichinose (University of Tokyo)
Jim Howe (UVA)
John Spence (ASU)
Pierre Stadelman (EPFL, Switzerland)
Molly McCartney (ASU)
Mauricio Terrones (IPICYT, Mexico)
Susanne Stemmer (UCSB)
Uli Dahmen (LBL, Berkeley)
Vinayak Dravid (Northwestern)
Wilfried Sigle (MPI, Stuttgart)

 


Este Simpósio será publicado em número da revista Microscopy and Microanalysis (Cambridge)